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Galvanikgestell beim Ausfahren aus einer Entmetallisierungslösung zur industriellen Entschichtung von Bauteilen, Gestellen und Kontakten.
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Saubere Bauteile. Saubere Gestelle. Saubere Kontakte.

Industrielle Entmetallisierung für Galvanik, Bauteile und Gestelle

DR. HESSE Firmenlogo – Spezialist für Galvanochemie, Elektrolyte und Oberflächentechnik.
Blaue Prozesslösung als Symbolbild für industrielle Entmetallisierung, Entschichtung und Entfernung galvanisch abgeschiedener Metallschichten.

Industrielle Entmetallisierung, Entschichtung und Entnickelung

Modular, effizient und anpassbar: Unser Entmetallisierungssystem bietet maßgeschneiderte Lösungen zur gezielten Entfernung galvanisch abgeschiedener und chemisch abgeschiedener Metallschichten – von der Entnickelung, Entkupferung und Entchromung bis zur Entschichtung von Bauteilen, Galvanikgestellen und Kontakten.

Für die industrielle Entmetallisierung stehen abgestimmte Lösungen zur Entfernung von Nickel, chemisch Nickel / Nickel-Phosphor, Chrom, Kupfer, Zink, Zink-Nickel, Zinn, Silber und weiteren Metallschichten zur Verfügung. Die Auswahl der passenden Entschichtung richtet sich nach Grundmaterial, Schichtaufbau und gewünschter Prozessführung – von der Entnickelung und Entkupferung bis zur Entchromung.

Interesse geweckt ?

Unsere Experten stehen Ihnen mit Rat und Tat zur Seite.

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Grundmaterial

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Abzulösende / zu entmetallisierende Schicht

 3 

Arbeitsweise

Gestellentmetallisierung BN-100 / KN 987100

Elektrolytisch

Grundmaterial

Abzulösende Schicht

Arbeitsweise

Ablöse-Geschwindigkeit

Elektrolytisch

50 - 70μm/Std.

Edelstahl, Titan

Kupfer, Zink, ZinkNickel, Chrom, Zinn, Cadmium, Silber, Nickel

HESSODEMET 1030 OX / KN 980323
HESSODEMET 1000 BA / KN 980331

Stromlos / Chemisch

Grundmaterial

Abzulösende Schicht

Arbeitsweise

Ablöse-Geschwindigkeit

Stromlos / Chemisch

10 - 20μm/Std.

Stahl / Eisen, Kupfer, Buntmetalle

Nickel, Zink, ZinkNickel, Nickel-Phosphor (<10% P), Nickel-Phosphor-Dispersionsschichten (<10% P)

HESSODEMET 1030 OX / KN 980323
HESSODEMET 1000 BA / KN 980331

Stromlos / Chemisch

Grundmaterial

Abzulösende Schicht

Arbeitsweise

Ablöse-Geschwindigkeit

Stromlos / Chemisch

1 - 4μm/Std.

Kupfer, Stahl / Eisen, Buntmetalle

Nickel-Phosphor (>10% P), Nickel-Phosphor-Dispersionsschichten (>10% P)

HESSODEMET 1010 OX / KN 980321
HESSODEMET 1000 BA / KN 980331

Stromlos / Chemisch

Grundmaterial

Abzulösende Schicht

Arbeitsweise

Ablöse-Geschwindigkeit

Stromlos / Chemisch

5 - 15μm/Std.

Stahl / Eisen

Kupfer, Zinn, ZinkNickel, Zink, Nickel-Phosphor (<10% P), Nickel

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Immer die richtige Entmetallisierung

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