top of page
Galvanikgestell beim Ausfahren aus einer Entmetallisierungslösung zur industriellen Entschichtung von Bauteilen, Gestellen und Kontakten.

PRZEWIŃ W DÓŁ, ABY DOWIEDZIEĆ SIĘ WIĘCEJ

Czyste detale. Czyste zawieszki.

Przemysłowa demetalizacja powłok galwanicznych z detali i zawieszek.

dr-hesse-logo-chemia-galwaniczna-elektrolity-technika-powierzchni.png
Blaue Prozesslösung als Symbolbild für industrielle Entmetallisierung, Entschichtung und Entfernung galvanisch abgeschiedener Metallschichten.

Przemysłowa demetalizacja, usuwanie powłok i odniklowanie

Modułowo, wydajnie i elastycznie: nasz system demetalizacji oferuje rozwiązania dopasowane do potrzeb w zakresie precyzyjnego usuwania galwanicznie i chemicznie osadzonych warstw metalicznych – od odniklowania, odmiedziowania i odchromowania po usuwanie powłok z detali, zawieszek galwanicznych i kontaktów.

Do przemysłowej demetalizacji dostępne są dopasowane rozwiązania do usuwania niklu, niklu chemicznego / niklu-fosforu, chromu, miedzi, cynku, cynku-niklu, cyny, srebra oraz innych warstw metalicznych. Dobór odpowiedniego procesu usuwania powłoki zależy od materiału bazowego, układu warstw i oczekiwanego sposobu prowadzenia procesu – od odniklowania i odmiedziowania po odchromowanie.

Zainteresowany?

Nasi eksperci służą Państwu radą i wsparciem.

1

Materiał podstawowy

2

Powłoka do usunięcia / demetalizacji

 3 

Tryb pracy kąpieli

HESSODEMET 1010 OX / KN 980321
HESSODEMET 1000 BA / KN 980331

Bezprądowo / chemicznie

Materiał bazowy

Powłoka do usunięcia / demetalizacji

Tryb pracy kąpieli

Szybkość usuwania powłoki

Bezprądowo / chemicznie

5–15 µm/godz.

Stal / żelazo

Miedź, Cyna, Cynk-nikiel, Cynk, Nikiel-fosfor (<10% P), Nikiel

HESSODEMET 1030 OX / KN 980323
HESSODEMET 1000 BA / KN 980331

Bezprądowo / chemicznie

Materiał bazowy

Powłoka do usunięcia / demetalizacji

Tryb pracy kąpieli

Szybkość usuwania powłoki

Bezprądowo / chemicznie

1–4 µm/godz.

Miedź, Stal / żelazo, Metale nieżelazne

Nikiel-fosfor (>10% P), Powłoki dyspersyjne nikiel-fosfor (>10% P)

HESSODEMET 1010 OX / KN 980321
HESSODEMET 1000 BA / KN 980331

Bezprądowo / chemicznie

Materiał bazowy

Powłoka do usunięcia / demetalizacji

Tryb pracy kąpieli

Szybkość usuwania powłoki

Bezprądowo / chemicznie

5–15 µm/godz.

Stal / żelazo

Miedź, Cyna, Cynk-nikiel, Cynk, Nikiel-fosfor (<10% P), Nikiel

Rack demetallisation BN-100 / KN 987100

Elektrolitycznie

Materiał bazowy

Powłoka do usunięcia / demetalizacji

Tryb pracy kąpieli

Szybkość usuwania powłoki

Elektrolitycznie

50–70 µm/godz.

Stal nierdzewna, Tytan

Miedź, Cynk, Cynk-nikiel, Chrom, Cyna, Kadm, Srebro, Nikiel

Wyszukiwarka produktów

Zawsze odpowiednia demetalizacja

bottom of page