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Galvanikgestell beim Ausfahren aus einer Entmetallisierungslösung zur industriellen Entschichtung von Bauteilen, Gestellen und Kontakten.
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Pièces propres. Montages propres. Contacts propres.

Démétallisation industrielle pour la galvanoplastie, les pièces et les montages

DR. HESSE Firmenlogo – Spezialist für Galvanochemie, Elektrolyte und Oberflächentechnik.
Blaue Prozesslösung als Symbolbild für industrielle Entmetallisierung, Entschichtung und Entfernung galvanisch abgeschiedener Metallschichten.

Démétallisation industrielle, retrait des dépôts métalliques et dénickelage.

Modulaire, efficace et adaptable : notre système de démétallisation offre des solutions sur mesure pour le retrait sélectif des dépôts métalliques électrolytiques et autocatalytiques: dénickelage, décuivrage, déchromage et autres procédés de démétallisation sur pièces, montages et contacts.

Pour la démétallisation industrielle, des solutions adaptées sont disponibles pour l’élimination des dépôt de nickel, du nickel chimique / nickel-phosphore, du chrome, du cuivre, du zinc, du zinc-nickel, de l’étain, de l’argent et d’autres revêtements métalliques. Le choix du procédé approprié dépend du substrat, de la structure des couches et du niveau de maîtrise de procédé souhaité, qu'il s'agisse du dénickelage, du décuivrage ou du déchromage.

Interesse geweckt ?

Unsere Experten stehen Ihnen mit Rat und Tat zur Seite.

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Substrat

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Dépôt à démétalliser

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Type de procédé

Rack demetallisation BN-100 / KN 987100

Électrolytique

Substrat

Dépôt à démétalliser

Type de procédé

Vitesse de décapage

Électrolytique

50 - 70 µm/h

Acier inoxydable, Titane

Cuivre, Zinc, Zinc-nickel, Chrome, Étain, Cadmium, Argent, Nickel

HESSODEMET 1030 OX / KN 980323
HESSODEMET 1000 BA / KN 980331

Chimique / sans courant

Substrat

Dépôt à démétalliser

Type de procédé

Vitesse de décapage

Chimique / sans courant

1 - 4μm/h

Cuivre, Acier / fer, Métaux non ferreux

Nickel-phosphore (>10 % P), Revêtements composites nickel-phosphore (>10 % P)

HESSODEMET 1030 OX / KN 980323
HESSODEMET 1000 BA / KN 980331

Chimique / sans courant

Substrat

Dépôt à démétalliser

Type de procédé

Vitesse de décapage

Chimique / sans courant

10 - 20μm/h

Acier / fer, Cuivre, Métaux non ferreux

Nickel, Zinc, Zinc-nickel, Nickel-phosphore (<10 % P), Revêtements composites nickel-phosphore (<10 % P)

HESSODEMET 1010 OX / KN 980321
HESSODEMET 1000 BA / KN 980331

Chimique / sans courant

Substrat

Dépôt à démétalliser

Type de procédé

Vitesse de décapage

Chimique / sans courant

5 - 15 µm/h

Acier / fer

Cuivre, Étain, Zinc-nickel, Zinc, Nickel-phosphore (<10 % P), Nickel

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Toujours la solution de démétallisation adaptée

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